10.16祝贺！浙大电气刘渊校友获2021达摩院青橙奖https://mp.weixin.qq.com/s/ZQbPBED0ZVrKh-QpBHgWtQ

      10月14日，2021达摩院青橙奖公布获奖名单，陈杲、方璐、金鑫、刘渊、陆盈盈、王权、王志俊、韦东奕、赵慧婵、朱飞虎等十名青年学者获奖，分享千万奖金。浙江大学电气工程学院刘渊校友与化学工程与生物工程学系陆盈盈特聘研究员入选。

    青橙奖见证了中国青年科研人才的迅猛发展，今年首度颁给国家重大科技任务的贡献者，为科研大时代中“最好的他们”画下注脚。

    青橙奖始于2018年8月，是业内最早为发掘中国青年学者而设立的公益性学术评选。此后，企业支持青年科研遂成风潮。青橙奖面向不超过35岁的年轻学者，他们通常博士毕业不久，刚刚步入独挑大梁的关键时期。

    今年，青橙奖通过组委会寻访、选手自主报名、专家推荐参评等方式，找到了这批中国科研的“火种”。他们得到了近100位海内外院士、长江学者、IEEE/ACM Fellow等知名学者的推荐。

    经初审、通讯评审、终审答辩等严苛流程后，组委会从365位参评人中选出“最好的他们”：拓荒科研无人区，面对世界级难题作出原创性贡献，是未来中国科研的生力军。

    刘渊校友凭借“聚焦新型微电子的加工工艺，实现了更小尺寸的半导体器件”上榜。此前，刘渊教授团队使用范德华金属集成法，成功展示了超短沟道垂直场效应晶体管原型器件，其有效沟道长度最短可小于1纳米。这项“微观世界”的创新，为“后摩尔时代”半导体器件性能提升增添了希望。